Home » 学会発表
Category Archives: 学会発表
Intermag2026国際学会に発表
イギリスのマンチェスターで開催されたIntermag2026国際学会に助教のHuyさん、博士課程の加々美君とThuan君が下記の発表を行いました。
[DS-03] Ho Hoang Huy, Li Wentao, Pham Van Thuan, Shigeyuki Hirayama, Yushi Kato, and Pham Nam Hai, “Large Spin Hall Angle in Highly-Textured Sputtered BiSb (012) Topological Insulator on Si/SiO2 Substrates Enabled by Buffer/Seed Stack”.
[DS-12] Sho Kagami, Zhang Ruixian, Daiki Ito, Quang Le, Brian York, Cherngye Hwang, Xiaoyong Liu, Son Le, Maki Maeda, Tuo Fan, Yu Tao, Hisashi Takano, Pham Nam Hai, “Giant Perpendicular Magnetic Anisotropy in Mo / Boron-rich CoFeB / MgAl2O4 Junction for p-MTJ integration to 5-7 nm CMOS Processes”.
[CS-05] Pham Van Thuan, Ho Hoang Huy, Li Wentao, Shigeyuki Hirayama, Yushi Kato, Pham Nam Hai, “Large spin Hall effect in 300C annealed BiSb topological insulator and perpendicularly magnetized CoFeB using oxide buffer/seed and interfacial layers on Si/SiO2 substrates”.
2026年春季応用物理学会学術講演会で発表
東京科学大学・大岡山キャンパスで開催された2026年春季応用物理学会学術講演会に、ファム教授、博士課程の加々美君、西山君、Liu Minさん、修士課程の李君、佐藤君、大枝君、伊藤君が下記の9件の発表を行いました。Keynote講演
京都大学で開催されたVANJ Conference 2025にPham教授が下記のKeynote講演を行いました。
[S05-2] PHAM Nam Hai, “SPINTRONIC MATERIALS FOR ULTRALOW POWER EDGE AI”
Keynote講演
Pham教授がThe 1st Viet Nam-Japan Semiconductor Symposium 2025で下記のKeynoteを発表しました。
Pham Nam Hai, “From Semiconductor to Topological Spintronics”
1st IC-Nanoworld 2025国際学会でKey note講演
Pham教授は Ho Chi Minh City University of Technology and Educationで開催されたInternational Conference on Nano-World Semiconductor and Sustainable Materials
(1st IC-Nanoworld 2025)国際学会で下記のKey note講演を行いました。
Topological materials: from fundamental researches to industrial applications
国際学会SSDM2025で発表
Pacifico Yokohamaで開催された国際学会SSDM2025でD1の加々美君が下記の発表を行いました。本研究成果はウェスタンデジタル社との共同研究の成果です。
2025年秋季応用物理学会学術講演会で発表
名城大学天白キャンパスで開催された2025年秋季応用物理学会学術講演会でD1のThuan君が下記の発表を行いました。本研究成果は日本サムスン社との共同研究の成果です。
TMRC2025国際学会で発表
D4のZhang君が磁気記録の国際学会TMRC2025で下記の発表を行いました。本研究はウェスタンデジタル社との共同研究の成果です。
国際学会IcAUMS2025で発表
Pham教授、博士課程のHu Yifan君、Liu Min君、加々美君、修士課程のLi君、OBのTuo Fan氏が沖縄で開催された国際学会IcAUMS2025で下記の発表を行いました。
[22aPS-3] Y. Hu, K. Sato, R. Zhang, K. Ishida, P. N. Hai, “Growth of Co thin Films with Low Roughness by ALD for 3D Magnetic Memory”.
[22aB-3] W. Li, H. Ho Hoang, S. Takahashi, Y. Hirayama, Y. Kato, P. N. Hai, “Growth of Highly Textured BiSb Topological Insulator on Si/SiOx substrates for Spin-Orbit Torque Devices Using TiOx/ MgO Buffer Layers”.
[22pC-3] M. Liu, R. Zhang, Q. Le, B. York, C. Hwang, X. Liu, M. Gribelyuk, X. Xu, S. Le, M. Maeda, F. Tuo, Y. Tao, H. Takano, P. N. Hai, “Spin Hall sensor using topological insulator”.
[22pB-9] S. Kagami, O. Fujie, D. Ito, Q. Le, B. York, C. Hwang, X. Liu, S. Le, M. Maeda, T. Fan, Y. Tao, H. Takano, P. N. Hai, “Role of Pt and Bi on the giant spin Hall effect in topological semimetal YPtBi”.
[22pB-10] F. Tuo, Q. Le, B. R. York, C. Hwang, X. Liu, M. A. Gribelyuk, S. Le, L. Xu, J. James, J. Ortega, M. Maeda, Y. Tao, H. Takano, M. Liu, R. Zhang, S. Namba, P. N. Hai, “Doped BiSbX Topological Insulator For Spin-Orbit Torque Devices”.
[22pB-12] P. N. Hai, K. Ishida, K. Sato, “Spin Hall effect in Platinum deposited by atomic layer deposition for 3D spin-orbit torque devices”.
2025年春季応用物理学会学術講演会で発表
東京理科大学野田キャンパスで開催された2025年春季応用物理学会学術講演会でPham教授、D3のZhang君とLiu君、M2の加々美君が下記の発表を行いました。