人工知能に向けたスピン半導体材料とデバイス
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国際学会SSDM2020（オンライン開催）に博士課程の脱凡君が下記の発表を行いました。
[K-10-04] Crystal Growth and Characterization of Topological Insulator BiSb Thin Films by Sputtering Deposition for SOT-MRAM Applications 〇Fan Tuo, Mustafa Tobah, Takanori Shirokura, Khang Nguyen, Nam Hai Pham
韓国の釜山 で開催されたISAMMA2026国際シ…
Pham教授はVin Universityで開催さ…
Si/SiOx基板上の300℃アニールしたBiSb…
イギリスのマンチェスターで開催されたInterma…
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